| 光刻技术综述 |
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| 引用本文： | 范华良,曹向群.光刻技术综述[J].光学仪器,1992,14(3):29-32. |
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| 作者姓名： | 范华良 曹向群 |
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| 作者单位： | 浙江大学光科系 310027 杭州玉泉 |
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| 摘 要： | 叙述了光刻技术在微电子、光学仪器制造中的发展情况,同时,介绍了近几年发展起来的立体光刻原理。
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| 关 键 词： | 光刻 激光 立体光刻 |
The Summary of the Lithography |
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| Fan Hua-liang,Cao Xiang-qun,Jin tong Dept.Photoelectric & Scientific Instrument Engineering Zhejiang University.The Summary of the Lithography[J].Optical Instruments,1992,14(3):29-32. |
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| Authors: | Fan Hua-liang Cao Xiang-qun Jin tong DeptPhotoelectric & Scientific Instrument Engineering Zhejiang University |
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| Affiliation: | Fan Hua-liang,Cao Xiang-qun,Jin tong Dept.Photoelectric & Scientific Instrument Engineering Zhejiang University,310027 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Lithography Laser Stereo lithography |
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