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铜膜在各种介质中的生长规律
引用本文:徐同林.铜膜在各种介质中的生长规律[J].低压电器,1991(2):19-23.
作者姓名:徐同林
作者单位:长征电器一厂
摘    要:综述了铜触头在不同介质中表面薄膜厚度与温度、时间的关系,介绍了有关计算公式、试验曲线及试验方法,计算了铜触头在不同温度、不同介质中表面薄膜厚度与工作时间的关系,并求出薄膜生长速度。

关 键 词:触头  介质  铜膜  生长规律
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