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掺铜TiO2薄膜的制备及结构与光学性能的研究
引用本文:高飞,吴再华,刘晓艳. 掺铜TiO2薄膜的制备及结构与光学性能的研究[J]. 半导体光电, 2009, 30(1): 87-89,98
作者姓名:高飞  吴再华  刘晓艳
作者单位:湖南信息职业技术学院,长沙,410200;中南大学材料科学与工程学院,长沙,410083
摘    要:采用双靶直流磁控共溅射法制备了掺铜TiO2薄膜,通过控制Cu靶的溅射功率改变Cu的掺杂量,研究了掺铜对TiO2薄膜的结构、光吸收及光催化性能的影响.结果表明:掺Cu能够改善薄膜的表面形貌与结晶质量,提高薄膜的光吸收性能.随着掺铜量的增加,TiO2薄膜的锐钛矿(101)衍射峰越来越强,且吸收边逐渐红移.Cu靶的溅射功率大于3 W,薄膜中就会出现CuO晶相.掺Cu后,TiO2薄膜的光催化性能明显增强.随着Cu的溅射功率的增大,TiO2薄膜的光催化性能先增强,后减弱.Cu的溅射功率为5 W的样品光催化性能最好.

关 键 词:TiO2薄膜  双靶直流磁控共溅射  铜掺杂

Preparation of TiO2 Thin Films Doped with Cu and Study on Its Structure and Optical Properties
GAO Fei,WU Zai-hua,LIU Xiao-yan. Preparation of TiO2 Thin Films Doped with Cu and Study on Its Structure and Optical Properties[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2009, 30(1): 87-89,98
Authors:GAO Fei  WU Zai-hua  LIU Xiao-yan
Abstract:
Keywords:
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