|
|||||
|
|
| 硅烷薄膜 | |
| 引用本文： | Mino,Norihisa,Matsushita Electric Industrial Co.,Ltd.. 硅烷薄膜[J]. 涂料技术与文摘, 2006, 27(1): 5-9 |
| 作者姓名： | Mino Norihisa Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. |
| 摘 要： | 制备了一种涂膜．其特征为：涂膜由含至少—个活性基团选自卤素原子、烷氧基和异氰酸酯基的硅烷化合物形成。涂膜分子部分通过硅、锗、锡、钛和锆元素中的至少一种以共价键方式附着于底材表面，部分相互聚合。涂膜透明．膜厚1nm-0．5μm，膜至少可以通过5次耐磨试验．方法为采用1：1的糖和酱油的混合物．在300℃下加热20min．然后冷却．烘干并粘附的污迹可以用湿布手工擦拭除去。 |
| 关 键 词： | 硅烷 薄膜 异氰酸酯基 0．5μm 活性基团 底材表面 耐磨试验 涂膜 化合物 烷氧基 |
Silan-based Thin Films |
|
| Abstract: | |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |