|
|||||
|
|
| 不同种类表面活性剂对a面蓝宝石衬底CMP的影响 | |
| 引用本文： | 崔雅琪,牛新环,王治,周佳凯.不同种类表面活性剂对a面蓝宝石衬底CMP的影响[J].半导体技术,2019,44(11):883-887,898. |
| 作者姓名： | 崔雅琪 牛新环 王治 周佳凯 |
| 作者单位： | 河北工业大学电子信息工程学院,天津 300130;天津市电子材料与器件重点实验室,天津 300130;河北工业大学电子信息工程学院,天津 300130;天津市电子材料与器件重点实验室,天津 300130;河北工业大学电子信息工程学院,天津 300130;天津市电子材料与器件重点实验室,天津 300130;河北工业大学电子信息工程学院,天津 300130;天津市电子材料与器件重点实验室,天津 300130 |
| 基金项目： | 国家科技重大专项资助项目;天津市自然科学基金资助项目;天津市企业科技特派员基金资助项目 |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | a面蓝宝石衬底 化学机械抛光(CMP) 表面活性剂 去除速率 表面粗糙度 |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |