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| 文摘选录 | |
| 摘 要： | 半导体工业用的超纯化学试剂王兆渠国外科技 4,13(1981) 随着大规模集成电路的发展,人们越来越认识到超纯化学试剂对制作大规模集成电路的重要性。在半导体工艺中,常用氢氟酸和含氧酸组成的混合液来对硅片刻蚀“窗口”,然后进行腐蚀。如果试剂纯度不高,含有多种金属离子,就可能在腐蚀后沉积在二氧化硅表面上,且不易被水洗去。另外,如果试剂中含有小于1微米的颗粒时,也易被硅或二氧化硅表面所吸附,虽用水也不易冲去。因而国外已专门生产电子工业专用试剂,并规定杂质含量要低于百万分之一(10_(-6),即1ppm)以下,且对微粒含量作了控制。鉴于试剂纯度会极大影响半导体产品质量,1970年美国化学协会制订了化学试剂最高杂质含量标准, |
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