高性能石英玻璃精密退火工艺研究

石英玻璃是应用非常广泛的高新技术材料。应用于X系统的石英玻璃除要求具备良好透光性能和耐宇宙射线辐照外,还要求大直径及厚度要求,其应力双折射为Ⅰ类和光学均匀性达到5×10-6。长期以来我国大尺寸(直径20 cm)石英玻璃的光学均匀性在10-5,远不能满足航天等领域的技术需求。实验以Ⅲ类石英玻璃(SiCl4化学气相沉积法合成石英玻璃)为研究对象,将现代退火理论应用到石英玻璃精密退火过程中,结合石英玻璃精密退火各过程数学模型,确定了各工艺参数并制定了精密退火工艺路线,有效消除了石英玻璃内应力、提高了光学均匀性,退火效率大幅提高,获得了满足要求的高性能石英玻璃。