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多晶硅绒面结构光学特性的数值模拟
引用本文:张发云.多晶硅绒面结构光学特性的数值模拟[J].材料导报,2014,28(18):137-140.
作者姓名:张发云
作者单位:江西省高等学校硅材料重点实验室,新余338004;新余学院新能源科学与工程学院,新余338004
基金项目:国家自然科学基金,江西省自然科学基金,江西省教育厅科学技术研究项目
摘    要:基于麦克斯韦方程组和材料本构方程,利用多物理场有限元软件COMSOL Multiphysics 3.5a中的RF模块建立了多坑绒面的有限元模型,并对硅片腐蚀前后的光学特性进行了模拟。研究表明,与硅片腐蚀前相比,腐蚀后(即多坑)绒面反射率较低,功率流y分量较高,具有较好的陷光效果,当波长为800nm时,多坑绒面表面电场z分量的最大值和最小值分别为腐蚀前硅片的3.1倍和2.3倍,而表面磁场y分量两个极值分别为腐蚀前硅片的6倍和6.6倍;通过将模拟结果和实验数据比较可知,多坑模型模拟结果更接近实验值,所获模拟结果可更好地指导实际生产。

关 键 词:多晶硅  多坑  反射率  绒面  数值模拟

Numerical Simulation for Optical Performance of Texture Structure of Multicrystalline Silicon
ZHANG Fayun.Numerical Simulation for Optical Performance of Texture Structure of Multicrystalline Silicon[J].Materials Review,2014,28(18):137-140.
Authors:ZHANG Fayun
Affiliation:ZHANG Fayun;Key Laboratory of Jiangxi University for Silicon Materials;Institute of New Energy Science and Engineering,Xinyu University;
Abstract:
Keywords:multicrystalline silicon  multi hole pit  reflectivity  texturing  numerical simulation
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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