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引入CO2提高金刚石薄膜的沉积速率
引用本文:冉均国 王灿丽 苟立 冉旭 苏葆辉 李德贵 廖晓明. 引入CO2提高金刚石薄膜的沉积速率[J]. 稀有金属材料与工程, 2007, 36(A01): 896-899
作者姓名:冉均国 王灿丽 苟立 冉旭 苏葆辉 李德贵 廖晓明
作者单位:四川大学,四川成都610065
基金项目:国家自然科学基金资助项目(10275046)
摘    要:微波等离子体法合成的金刚石薄膜质量好,但常规小型微波等离子体沉积金刚石薄膜速率低,为此,本实验在H2-CH4系统中引入CO2来提高金刚石薄膜的沉积速率。研究了不同碳源体积分数、功率、压力对沉积速率、金刚石形貌、电阻率的影响。其规律是随着碳源体积分数的增加,金刚石膜的沉积速率增加;随着压力的增加,生长速率呈现一个先增后减的趋势;随着功率的增加,也存在一个先增后降的趋势。研究结果表明碳源体积分数对沉积速率影响最大。综合各种因素,得到在H2+CH4+CO2的条件下沉积金刚石薄膜的最佳工艺条件为:碳源体积分数为0.63%;C/O=1.086;功率为490W;压力为5.33kPa。引入CO2使沉积速率得到提高,为常规方法沉积速率的3倍左右,表明引入CO2是一种提高沉积速率的有效方法。

关 键 词:金刚石薄膜 微波等离子体 二氧化碳 沉积速率
文章编号:1002-185X(2007)S1-0896-04
修稿时间:2007-02-28

Improving Growth Rate of Diamond Film by the Addition of CO2
Ran Junguo, Wang Canli, Gou Li, Ran Xu, Su Baohui, Li Degui, Liao Xiaoming. Improving Growth Rate of Diamond Film by the Addition of CO2[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2007, 36(A01): 896-899
Authors:Ran Junguo   Wang Canli   Gou Li   Ran Xu   Su Baohui   Li Degui   Liao Xiaoming
Affiliation:Sichuan University, Chengdu 610065, China
Abstract:
Keywords:diamond film   microwave plasma   CO2   growth rate
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