| 铌酸锂晶片抛光的主要物理及化学因素分析 |
| |
| 引用本文： | 杨静,杨洪星,韩焕鹏,王雄龙,田原,范红娜,张伟才. 铌酸锂晶片抛光的主要物理及化学因素分析[J]. 材料导报, 2017, 31(Z2): 273-276 |
| |
| 作者姓名： | 杨静 杨洪星 韩焕鹏 王雄龙 田原 范红娜 张伟才 |
| |
| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津 300220,中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津 300220,中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津 300220,中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津 300220,中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津 300220,中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津 300220,中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津 300220 |
| |
| 摘 要： | 光学器件的飞速发展对基体材料铌酸锂不断提出更高要求。为获得满足器件使用要求的超光滑、高平整晶片表面,采用化学机械抛光方法对铌酸锂进行加工。研究过程中,对负载压力、抛光布表面结构、抛光液流量、p H值等工艺参数进行了优化调整,最终制备出平整度较高、表面粗糙度较小的铌酸锂抛光片。实验结果表明,选取Suba 600抛光布、液流量3 m L/s、p H值为10、底盘转速60 r/min、压力为0.16 MPa作为抛光工艺参数可获得高平整、超光滑的铌酸锂抛光片。平面度测量仪与原子力显微镜测试结果表明,所制备LN抛光片的总厚度变化(TTV)为6.398μm,粗糙度(Ra)为0.196 nm。
|
| 关 键 词： | 铌酸锂 化学机械抛光 粗糙度 总厚度变化 |
Analysis of Physical and Chemical Factors of Chemical Mechanical Polishing About Lithium Niobate |
| |
| YANG Jing,YANG Hongxing,HAN Huanpeng,WANG Xionglong,TIAN Yuan,FAN Hongna and ZHANG Weicai. Analysis of Physical and Chemical Factors of Chemical Mechanical Polishing About Lithium Niobate[J]. Materials Review, 2017, 31(Z2): 273-276 |
| |
| Authors: | YANG Jing YANG Hongxing HAN Huanpeng WANG Xionglong TIAN Yuan FAN Hongna ZHANG Weicai |
| |
| Affiliation: | China Electronics Technology Group Corporation No.46 Research Institute, Tianjin 300220,China Electronics Technology Group Corporation No.46 Research Institute, Tianjin 300220,China Electronics Technology Group Corporation No.46 Research Institute, Tianjin 300220,China Electronics Technology Group Corporation No.46 Research Institute, Tianjin 300220,China Electronics Technology Group Corporation No.46 Research Institute, Tianjin 300220,China Electronics Technology Group Corporation No.46 Research Institute, Tianjin 300220 and China Electronics Technology Group Corporation No.46 Research Institute, Tianjin 300220 |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | lithium niobate chemical mechanical polishing roughness total thickness variation |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《材料导报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《材料导报》下载全文 |
|
