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半导体致冷恒温浴槽
引用本文:昝育德,李瑞云,王俊,林兰英.半导体致冷恒温浴槽[J].半导体学报,1999,20(8):733-736.
作者姓名:昝育德  李瑞云  王俊  林兰英
作者单位:中国科学院半导体研究所!北京100083
摘    要:本文介绍一种用半导体致冷器件制作的恒温槽.该装置采用了高精度温控仪,磁耦合搅拌器以及适当的保温材料.可以很方便地将容器内液体介质及被控部件控制在-30°~50℃之间,其精度小于005℃.它可以广泛地应用于半导体工业及其他要求高精度恒温控制的装置中

关 键 词:半导体  致冷器件  恒温槽  保温材料
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