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光刻机投影物镜的温度控制算法
引用本文:聂宏飞,李小平,张玲莉. 光刻机投影物镜的温度控制算法[J]. 中国机械工程, 2008, 19(10): 0-1139
作者姓名:聂宏飞  李小平  张玲莉
作者单位:1. 华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室,武汉,430074
2. 天津城市建设学院,天津,300381
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划) , 国家高技术研究发展计划(863计划)
摘    要:针对光刻机媒质远传温控系统的大惯性、多重时滞和多重扰动特征,提出了双输入双输出多模态非线性PI控制算法来提高温控过程的收敛速度和稳态精度.算法将温控系统从启动到稳定划分为5个控制模态,下层采用非线性PI算法实现精确控制,上层利用智能决策实现多模态的选择和切换.该算法已被成功运用于光刻机投影物镜温度控制系统中,实现了投影物镜温度控制的快速收敛,使光刻机在±0.006℃范围内稳定工作,对比实验进一步显示该算法具有较强的鲁棒性和自适应性.

关 键 词:温度控制  PI算法  多模态  智能决策  双输入双输出  光刻机  投影物镜  温度控制  控制算法  Lens  Projection  Optical Lithography  Control Algorithm  适应性  鲁棒性  显示  对比实验  稳定工作  范围  快速收敛  控制系统  成功运用  的选择  决策  智能
文章编号:1004-132X(2008)10-1135-05
修稿时间:2006-11-29

Temperature Control Algorithm for Optical Lithography Projection Lens
Nie Hongfei,Li Xiaoping,Zhang Lingli. Temperature Control Algorithm for Optical Lithography Projection Lens[J]. China Mechanical Engineering, 2008, 19(10): 0-1139
Authors:Nie Hongfei  Li Xiaoping  Zhang Lingli
Abstract:
Keywords:temperature control  PI algorithm  multi-mode  intelligent decision  two-input two-output
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