| 全反射X射线荧光分析 |
| |
| 引用本文： | 杨明太,张连平.全反射X射线荧光分析[J].核电子学与探测技术,2002,22(6):572-575. |
| |
| 作者姓名： | 杨明太 张连平 |
| |
| 作者单位： | 中国工程物理研究院,四川绵阳919信箱71分箱,621900 |
| |
| 摘 要： | 综述了全反射X射线荧光分析技术的基本原理，装置及特点，介绍了全射X射线荧光分析技术的应用及其前景。
|
| 关 键 词： | 全反射X射线荧光分析 原理 TXRF装置 痕量分析 微量分析 |
| 文章编号： | 0258-0934(2002)06-0572-04 |
| 修稿时间： | 2002年2月11日 |
Total reflection X-ray fluorescence analysis |
| |
| YANG Ming-tai,ZHANG Lian-ping.Total reflection X-ray fluorescence analysis[J].Nuclear Electronics & Detection Technology,2002,22(6):572-575. |
| |
| Authors: | YANG Ming-tai ZHANG Lian-ping |
| |
| Abstract: | The radical principle, equipment and peculiarity of total reflection X ray fluorescence are summarized. Application and perspective of tatal reflection X ray fluorescence are recommended. |
| |
| Keywords: | total reflection X ray fluorescence analysis techniques summarized |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
