| Gd-Si-Ge磁致冷材料研究进展 |
| |
| 引用本文： | 姜自莲. Gd-Si-Ge磁致冷材料研究进展[J]. 热加工工艺, 2008, 37(16) |
| |
| 作者姓名： | 姜自莲 |
| |
| 作者单位： | 成都电子机械高等专科学校,实训基地,四川,成都,610031 |
| |
| 摘 要： | 介绍了Gd.Si.Ge磁致冷材料的晶体结构、磁相变、磁热效应、制备方法、防腐等方面的研究进展.室温磁致冷材料Gds(Si,Ge1-x)4在O≤x≤0.5、磁场H>5T时,呈现巨磁热效应;磁热效应的物理本质是一级磁晶相变;原材料Gd对Gd-Si-Ge系合金巨磁热效应的影响较大;Gd-Si-Ge磁致冷材料的成型方法主要有包覆法、复合法和真空扩散焊等.
|
| 关 键 词： | 磁致冷材料 晶体结构 磁相变 磁热效应(MCE) |
Research Progress of Gd-Si-Ge Magnetic Refrigerant Material |
| |
| JIANG Zilian. Research Progress of Gd-Si-Ge Magnetic Refrigerant Material[J]. Hot Working Technology, 2008, 37(16) |
| |
| Authors: | JIANG Zilian |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
