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| Ga2O3/γ-Al2O3表面丙烷选择性还原NO的反应机理研究 | |
| 作者姓名： | 何川华 Martin Paulus Julius A Nickl Josef Find 储伟 Klaus K(o)hler |
| 作者单位： | 1. Department of Chemistry,TU München,Lichtenbergstr.4,D-85747 Garching,Germany;Gesellschaft für Werkstoffprüfung mbH,Georg-Wimmer-Ring 25,D-85604 Zorneding,Germany 2. Department of Chemistry,TU München,Lichtenbergstr.4,D-85747 Garching,Germany 3. Gesellschaft für Werkstoffprüfung mbH,Georg-Wimmer-Ring 25,D-85604 Zorneding,Germany 4. 四川大学,化学工程学院,四川,成都,610065 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金重点项目(20133010);福建省科技计划重大项目(2002H008);福建省科技三项(K2001006)资助. |
| 摘 要： | 对不同催化剂的制备方法及催化剂中镓含量对催化剂活性的影响进行了研究,对Ga2O3/γ-Al2O3催化剂中的活性中心进行了讨论;用原位红外技术、暂态反应技术、程序升温脱附和程序升温表面反应等方法对Ga2O3/γ-Al2O3表面丙烷选择性还原NO的反应机理进行了研究.对催化剂表面各吸附物种的形成和反应性能、NO对丙烷氧化的影响进行了详细的研究,实验结果与化学计量学计算结果相结合可以推测出哪些吸附物种涉及NO的选择性还原,哪些吸附物种没有参与NO的还原反应,从而推断出在Ga2O3/γ-Al2O3催化剂表面丙烷选择性还原NO的反应机理. |
| 关 键 词： | 选择催化还原(SCR) NOx消除反应 氧化铝 氧化镓 原位红外光谱研究 反应机理 |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |