| 脉冲激光溅射沉积WO3气敏膜 |
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| 引用本文： | 赵岩,冯钟潮,张炳春,梁勇. 脉冲激光溅射沉积WO3气敏膜[J]. 传感技术学报, 1998, 11(4): 78-82 |
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| 作者姓名： | 赵岩 冯钟潮 张炳春 梁勇 |
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| 作者单位： | 中国科学院金属研究所!沈阳110015 |
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| 摘 要： | 本文研究了脉冲激光溅射镀膜技术沉积WO_3基片在室温下,沉积的WO_3膜部分晶化并部分还原.经热处理,在450℃左右膜层开始晶化,最后形成三斜晶系的WO_3晶化后颗粒在几十到几百纳米之间.本技术沉积的WO_3膜对NO_2气体有非常好的气敏性能,可检测0.1×10~(-6)量级的NO_2气体.WO_3膜的灵敏度随温度降低而增大,但同时响应时间和恢复时间增长.同其它制备技术相比,本技术沉积的WO_3膜显著提高了响应性能:响应时间和恢复时间,它们分别为30_s和70_s.
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| 关 键 词： | 气体传感器 薄膜 制备 三氧化钨膜 |
WO_3 Gas Sensor Films Deposited by Pulsed Laser Deposition |
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| Zhao Yan Feng Zhongchao Zhang Bingchun Liang Yong. WO_3 Gas Sensor Films Deposited by Pulsed Laser Deposition[J]. Journal of Transduction Technology, 1998, 11(4): 78-82 |
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| Authors: | Zhao Yan Feng Zhongchao Zhang Bingchun Liang Yong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | gas sensor pulsed laser deposition WO film |
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