| Au/Gd多层膜的制备和表征 |
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| 引用本文： | 张继成,王占山,吴卫东,许华.Au/Gd多层膜的制备和表征[J].材料导报,2005,19(Z1):81-82,86. |
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| 作者姓名： | 张继成 王占山 吴卫东 许华 |
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| 作者单位： | 1. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900
2. 同济大学物理系,上海,200092 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 介绍了用磁控溅射法制备Au/Gd(金/钆)多层膜的初步实验结果.在摸索出的工艺条件下,采用计算机定时控制膜厚的方法,按照设计的周期结构(设计周期厚度10nm,Au/Gd=5nm/5nm,总周期数为25)制备了界面清晰、表面光滑的多层膜样品.X-Ray衍射仪小角衍射测试的周期厚度为9.95nm,和设计值十分吻合,原子力显微镜(AFM)的检测表明,薄膜的表面粗糙度小于1.7nm.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 Au/Gd(金/钆)多层膜 X-Ray衍射仪小角衍射 原子力显微镜(AFM) |
Fabrication and Analysis of Au/Gd Multilayer Film Deposited by Magnetron Sputtering |
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| ZHANG Jicheng,WANG Zhanshan,Wu Weidong,XU Hua.Fabrication and Analysis of Au/Gd Multilayer Film Deposited by Magnetron Sputtering[J].Materials Review,2005,19(Z1):81-82,86. |
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| Authors: | ZHANG Jicheng WANG Zhanshan Wu Weidong XU Hua |
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