低压等离子喷涂技术在功能性涂层的应用进展 |
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作者姓名: | 朱军亮 赵子鹏 易同斌 何庆兵 王征辉 |
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作者单位: | 重庆南开中学,重庆,400030;西南技术工程研究所,重庆,400039 |
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摘 要: | 与常规等离子喷涂相比,低压等离子喷涂技术在真空或低压下进行等离子喷涂,可制备更低杂质、更高致密度、更高结合强度的涂层。介绍了常规等离子喷涂焰流速度高、工艺稳定性好、沉积效率高、可控性好的特点,详细阐述了低压等离子喷涂技术清洁、高速、长焰流、预热、电清理的工艺优势,说明了低压等离子喷涂技术在热障涂层、抗气蚀涂层、面向等离子体材料等功能性涂层制备上的应用,最后从完善相关理论、与其他技术联用、工艺在线可控、气氛压力更低等方面,以及在航空、航天、电子等领域的运用,对低压等离子喷涂技术的发展进行了展望。
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关 键 词: | 低压等离子喷涂技术 热障涂层 抗气蚀涂层 面向等离子体材料 |
收稿时间: | 2015-09-18 |
修稿时间: | 2016-01-20 |
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