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| 三氟化氮——一种新型干蚀刻气 | |
| 引用本文： | A.J.Woytek,康显澄,晋华正.三氟化氮——一种新型干蚀刻气[J].低温与特气,1985(3):36-40. |
| 作者姓名： | A.J.Woytek 康显澄 晋华正 |
| 作者单位： | 不详 |
| 摘 要： | 目前，三氟化氮正被研究作为一种半导体干气体蚀刻剂。这是因为它有很高的蚀刻速率和选择性。由于这种气体刚用于电子工业，故本文将对该化台物的物理和化学性质进行评论，并提供管理NF3的资料，以及检漏和排除泄漏的方法。 |
| 关 键 词： | 三氟化氮 干蚀刻气 物理性质 化学性质 纯度 毒性 |
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