三氟化氮——一种新型干蚀刻气

目前，三氟化氮正被研究作为一种半导体干气体蚀刻剂。这是因为它有很高的蚀刻速率和选择性。由于这种气体刚用于电子工业，故本文将对该化台物的物理和化学性质进行评论，并提供管理NF3的资料，以及检漏和排除泄漏的方法。