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晶种法合成纯二氧化硅薄膜及其性质研究
引用本文:李庆华,袁昊. 晶种法合成纯二氧化硅薄膜及其性质研究[J]. 上海第二工业大学学报, 2007, 24(1): 1-3
作者姓名:李庆华  袁昊
作者单位:上海第二工业大学环境工程系,上海,201209;上海第二工业大学环境工程系,上海,201209
摘    要:晶种法在硅晶片表面生成超薄膜的的一项新兴技术。本实验中主要采取以下两个步骤:首先在浸过标准清洗的硅晶片表面吸附一层不连续的晶种,然后在培养溶液中使得二氧化硅晶体定向从而生成连续的薄膜。对于生产的产物使用XRD、SEM和FT-IR进行表征。

关 键 词:氧化硅分子筛薄膜  晶种  模版剂  四丙基氢氧化铵
文章编号:1001-4543(2007)01-0001-03
收稿时间:2006-09-04
修稿时间:2007-01-20

Synthesis of Thin Films of TPA-Silicalite-1 by the Seeding Method
LI Qing-hu,YUAN Hao. Synthesis of Thin Films of TPA-Silicalite-1 by the Seeding Method[J]. Journal of Shanghai Second Polytechnic University, 2007, 24(1): 1-3
Authors:LI Qing-hu  YUAN Hao
Affiliation:Department of Environmental Engineering, Shanghai Second Polytechnic University, Shanghai 210209, E R. China
Abstract:A seeding technique for synthesizing ultra thin films on silicon wafer has been developed.The technique consists of two steps.A monolayer of discrete colloidal zeolite seed crystals is adsorbed on the substrate,where after the crystals are allowed to grow into a continuous film in a precursor solution.The films are characterized by XRD,SEM and FT-IR.
Keywords:Pure-silica zeolite thin film  seeding  template  TPAOH
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