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| 铁电薄膜的制备方法 | |
| 引用本文： | 张之圣,李海燕,胡明. 铁电薄膜的制备方法[J]. 仪器仪表学报, 2002, 23(Z1): 315-317 |
| 作者姓名： | 张之圣 李海燕 胡明 |
| 作者单位： | 天津大学电子信息工程学院,天津,300072 |
| 摘 要： | 介绍了制备铁电薄膜的几种不同种类的方法.LSMCD技术是一种新型的制备铁电薄膜的技术.采用超声雾化产生微米级或亚微米级尺寸的气雾,再用载气将气雾引入沉积室内,沉积在基片上.重复此过程直至膜厚达到所需厚度. |
| 关 键 词： | 铁电薄膜 金属有机化合物 液态源雾化化学沉积 |
Technology of Preparing Ferroelectric Thin Film |
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