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电介质保护膜对磁光记录膜的磁和磁光特性的影响
引用本文:熊锐,金明桥,等.电介质保护膜对磁光记录膜的磁和磁光特性的影响[J].真空科学与技术,2002,22(3):209-212,220.
作者姓名:熊锐  金明桥
作者单位:武汉大学物理系,武汉430072
摘    要:采用射频磁控溅射法制备了非晶TbFeCo薄膜及其保护层AlN薄膜,并研究保护层对薄膜的磁和磁光特性的影响。结果表明,AlN薄膜可以增强薄膜磁光效应,同时,AlN薄膜对TbFeCo磁光薄膜的矫顽力、垂直磁各向异性以及本征克尔角都有一定的影响。其原因来自于溅射过程中N和Al原子对TbFeCo薄膜表面的轰击而导致的界面特性的改变。

关 键 词:电介质保护膜  磁光记录膜  磁光特性  TbFeCo薄膜  AlN保护层  矫顽力  垂直磁各向异性  本征克尔角  磁性
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