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| 电介质保护膜对磁光记录膜的磁和磁光特性的影响 | |
| 作者姓名： | 熊锐 金明桥 等 |
| 作者单位： | 武汉大学物理系，武汉430072 |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法制备了非晶TbFeCo薄膜及其保护层AlN薄膜，并研究保护层对薄膜的磁和磁光特性的影响。结果表明，AlN薄膜可以增强薄膜磁光效应，同时，AlN薄膜对TbFeCo磁光薄膜的矫顽力、垂直磁各向异性以及本征克尔角都有一定的影响。其原因来自于溅射过程中N和Al原子对TbFeCo薄膜表面的轰击而导致的界面特性的改变。 |
| 关 键 词： | 电介质保护膜 磁光记录膜 磁光特性 TbFeCo薄膜 AlN保护层 矫顽力 垂直磁各向异性 本征克尔角 磁性 |
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