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| 一种获得低补偿比GaAs外延材料新技术 | |
| 作者姓名： | 程祺祥 |
| 摘 要： | <正>众所周知,GaAs汽相外延中,衬底中的补偿杂质以自掺杂和外扩散的形式进入外延层,引起外延材料的补偿.近年来,从补偿比来研究掺杂GaAs的行为渐渐地受到了重视.我们采用一种新技术生长了具有低补偿比的GaAs外延材料.实验是在AsCl_3/H_2/Ga体系和立式炉中进行.衬底是<100>取向的掺Cr半绝缘GaAs单晶,在同样条件下,采用新技术和普通工艺两种方法生长的外延材料,其结果是,新技术的室温μ_H略高于普通法,而77°K的μ_H却有明显的提高.根据迁移率的结果分析来确定外延层中杂质的补偿比N_A/N_D,结果表明,新技术生长的外延材料,其杂质补偿比,比通常方法生长的要低,较好的结果是<0.2. |
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