| 纳米压印光刻胶 |
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| 引用本文： | 赵彬,张静,周伟民,王金合,刘彦伯,张燕萍,施利毅,张剑平.纳米压印光刻胶[J].微纳电子技术,2011,48(9):606-612. |
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| 作者姓名： | 赵彬 张静 周伟民 王金合 刘彦伯 张燕萍 施利毅 张剑平 |
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| 作者单位： | 1. 上海大学理学院化学系,上海,200444
2. 上海市纳米科技与产业发展促进中心纳米核心技术实验室,上海,200237 |
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| 基金项目： | 上海市科委纳米专项基金(1052nm07500) |
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| 摘 要： | 光刻胶是纳米压印的关键材料,其性能将影响压印图形复制精度、图形缺陷率和图形向底材转移时刻蚀选择性。提出了成膜性能、硬度黏度、固化速度、界面性质和抗刻蚀能力等压印光刻胶的性能指标。并根据工艺特点和材料成分对光刻胶分类,介绍了热压印光刻胶、紫外压印光刻胶、步进压印式光刻胶和滚动压印式光刻胶的特点以及碳氧类纯有机材料、有机氟材料、有机硅材料做压印光刻胶的优缺点。列举了热压印、紫外压印、步进压印工艺中具有代表性的光刻胶实例,详细分析了其配方中各组分的比例和作用。介绍了可降解光刻胶的原理。展望了压印光刻胶的发展趋势。
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| 关 键 词： | 纳米压印(NIL) 热压印光刻胶 紫外压印光刻胶 氟聚合物 有机硅聚合物 |
Nanoimprint Lithography Resist |
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| Zhao Bin,Zhang Jing,Zhou Weimin,Wang Jinhe,Liu Yanbo,Zhang Yanping,Shi Liyi,Zhang Jianping.Nanoimprint Lithography Resist[J].Micronanoelectronic Technology,2011,48(9):606-612. |
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| Authors: | Zhao Bin Zhang Jing Zhou Weimin Wang Jinhe Liu Yanbo Zhang Yanping Shi Liyi Zhang Jianping |
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| Affiliation: | 1 (1.Chemistry Department,School of Science,Shanghai University,Shanghai 200444,China;2.Laboratory of Nanotechnology,Shanghai Nanotechnology Promotion Center(SNPC),Shanghai 200237,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | nanoimprint lithography(NIL) hot embossing resist UV-nanoimprint resist fluoropolymer organosilicon polymer |
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