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高分辨电子显微像的定量分析与应用Ⅱ.InGaAs/GaAs应变层超晶格的高分辨像定量分析
引用本文:兰建章,王绍青,孟祥敏,于瀛大,谢天生,李斗星. 高分辨电子显微像的定量分析与应用Ⅱ.InGaAs/GaAs应变层超晶格的高分辨像定量分析[J]. 电子显微学报, 1998, 17(2)
作者姓名:兰建章  王绍青  孟祥敏  于瀛大  谢天生  李斗星
摘    要:使用高分辨像定量分析方法和像模拟技术,对外延生长的GaAs/InxGa1-xAs应变层超晶格的微观组态进行了详细的分析.用像模拟验证了成像位置与结构投影的对应关系.使用像点定位及畸变测量的分析方法,获得了晶格畸变位移分布图及畸变沿生长方向的分布曲线,扣除由四方畸变导致的点阵膨胀与收缩,得到了仅由In元素分布导致的点阵参数变化曲线.由晶格参数与In元素含量的线性对应关系,获得了超晶格中In元素沿生长方向的分布曲线.

关 键 词:高分辨电子显微像  应变层超晶格  定量分析  点阵畸变  元素分布

Quantitative Analysis and Application of HREM Image II. Quantitative Analysis of HREM Image of InGaAs/GaAs Strained Layer Superlattice
Lan Jianzhang,Wang Shaoqing,Meng Xiangmin,Yu Yingda,Xie Tiansheng,Li Douxing. Quantitative Analysis and Application of HREM Image II. Quantitative Analysis of HREM Image of InGaAs/GaAs Strained Layer Superlattice[J]. Journal of Chinese Electron Microscopy Society, 1998, 17(2)
Authors:Lan Jianzhang  Wang Shaoqing  Meng Xiangmin  Yu Yingda  Xie Tiansheng  Li Douxing
Abstract:
Keywords:
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