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应用材料为20nm制程开发自主式缺陷检测SEM
摘 要:
应用材料公司推出Applied SEMVision G5系统,进一步提升其在缺陷检测扫描电子显微镜(Scanning ElectronicMicroscope,简称SEM)技术的领导地位,这是首款可供芯片制造商用于无人生产环境的缺陷检测工具,能拍摄并分析20纳米影响良率的缺陷。
关 键 词:
应用材料公司
缺陷检测
SEM
自主式
扫描电子显微镜
开发
制程
检测工具
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