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CaMoO4薄膜的电化学制备技术研究
引用本文:毕剑,余萍,高道江,陈连平,肖定全. CaMoO4薄膜的电化学制备技术研究[J]. 功能材料, 2005, 36(10): 1549-1551
作者姓名:毕剑  余萍  高道江  陈连平  肖定全
作者单位:1. 四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064;四川师范大学,化学学院,四川,成都,610066
2. 四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064
基金项目:国家自然科学基金重大国际合作资助项目(50410179)和面上资助项目(50372042);霍英东青年教师基金资助项目(94008)
摘    要:采用恒电流的电化学技术,在高纯金属钼基体上直接制备了白钨矿结构的CaMoO4薄膜;其制备条件为:电流密度0.5mA/cm^2,饱和Ca(OH)2溶液的pH值12.0,反应温度70℃,电化学沉积时间250min.X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和扫描电镜(SEM)分析测试表明,所制备的薄膜为表面均匀致密的四方晶系的CaMoO4单相多晶薄膜.

关 键 词:CaMoO4薄膜 电化学技术 白钨矿结构 制备
文章编号:1001-9731(2005)10-1549-03
收稿时间:2005-02-01
修稿时间:2005-04-20

Study on electrochemical preparing techniques for CaMoO4 thin films
BI Jian,YU Ping,GAO Dao-jiang,CHEN Lian-ping,XIAO Ding-quan. Study on electrochemical preparing techniques for CaMoO4 thin films[J]. Journal of Functional Materials, 2005, 36(10): 1549-1551
Authors:BI Jian  YU Ping  GAO Dao-jiang  CHEN Lian-ping  XIAO Ding-quan
Affiliation:BI Jian, YU Ping , GAO Dao-jiang, CHEN Lian-ping, XIAO Ding-quan (1. College of Materials Science
Abstract:
Keywords:CaMoO4 thin films   electrochemical technique   scheelite-structure   preparation
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