| 蓝宝石晶片表面净化技术研究 |
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| 引用本文： | 周海,杭寅,姚绍峰.蓝宝石晶片表面净化技术研究[J].电子机械工程,2005,21(6):42-45. |
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| 作者姓名： | 周海 杭寅 姚绍峰 |
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| 作者单位： | 盐城工学院机械工程学院,江苏,盐城,224003;中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;兴化祥盛光电子材料公司,兴化,225716 |
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| 基金项目： | 国家科技攻关项目;江苏省教育厅自然科学基金 |
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| 摘 要： | 阐述了在氮化镓生长中使用的蓝宝石晶片净化的重要性。论述了蓝宝石晶片的净化原理。通过净化试验研究，提出了适合于工业化生产的蓝宝石晶片清洗剂和净化工艺，满足了光电子领域所需的开盒即用的蓝宝石晶片表面质量要求。
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| 关 键 词： | 蓝宝石晶片 净化工艺 清洗剂 |
| 文章编号： | 1008-5300（2005）06-0042-04 |
| 收稿时间： | 2005-07-28 |
| 修稿时间： | 2005年7月28日 |
A Study on the Cleaning Technology for Sapphire Wafer |
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| ZHOU Hai,HANG Yin and YAO Shao-feng.A Study on the Cleaning Technology for Sapphire Wafer[J].Electro-Mechanical Engineering,2005,21(6):42-45. |
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| Authors: | ZHOU Hai HANG Yin and YAO Shao-feng |
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| Affiliation: | 1. Department of Mechanical Engineering, Yancheng Institute of Technology, Yancheng 224003, China ; 2. Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China; 3. Xinghua Xiangsheng Opto-electronic Materical Co. , Ltd, Xinghua 225716, China |
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| Abstract: | The significance of sapphire wafer cleaning in growing of GaN is explained. The cleaning principle of sapphire wafers is discussed. The cleaning solution and technology of the sapphire wafer suitable for industrial production are presented and varified by cleaning experiments. Sapphire wafer can be used in photoelectronics without re-cleaning by this method. |
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| Keywords: | sapphire wafer cleaning technology cleaning solution |
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