| 磁控溅射中工艺参数对ZnO:Al薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 徐玮,于军,王晓晶,袁俊明,雷青松.磁控溅射中工艺参数对ZnO:Al薄膜性能的影响[J].材料导报,2009,23(Z2). |
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| 作者姓名： | 徐玮 于军 王晓晶 袁俊明 雷青松 |
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| 作者单位： | 1. 华中科技大学电子科学与技术系,武汉,430074
2. 华中科技大学电子科学与技术系,武汉430074;湖北省光伏工程技术研究中心,武汉430074 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金重大项目 |
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| 摘 要： | 利用射频磁控溅射法,采用氧化锌铝(98%ZnO+2%Al2O3)为靶材,在普通载玻片上制备了ZAO(ZnO∶Al)薄膜,研究了溅射功率及溅射气压对薄膜晶体结构、电学和光学性能的影响.采用X射线衍射仪、场扫描电镜对薄膜的结构及表面形貌进行了分析,采用分光光度计和电阻率测试仪对薄膜的光电学性能进行了测试.结果表明,当溅射功率为120W、衬底温度为300℃、工作气压为0.5Pa时制得的薄膜具有良好的光电学性能,可见光平均透过率为88.21%,电阻率为8.28×10-4Ω·cm.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 陶瓷靶材 电阻率 透过率 ZnO:Al薄膜 ZnO ∶ Al films |
Effects of Process Parameters on Properties of ZnO:Al Thin Films by Magnetron Sputtering |
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| XU Wei,YU Jun,WANG Xiaojing,YUAN Junming,LEI Qingsong.Effects of Process Parameters on Properties of ZnO:Al Thin Films by Magnetron Sputtering[J].Materials Review,2009,23(Z2). |
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| Authors: | XU Wei YU Jun WANG Xiaojing YUAN Junming LEI Qingsong |
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| Abstract: | Thin films of transparent conductive aluminum-doped ZnO are deposited on the glass substate by the RF magnetron sputtering method with target of AlZnO(98% ZnO+2% Al2O3 ), the effects of process parameters on trophotometry and four-point probe method. Experimental results indicate that the films prepared at substrate tempreture of 300℃ with RF power of 120W and working pressure of 0. 5 Pa have good optical and electronical properties,av |
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| Keywords: | RF magnetron sputtering ceramic target resistivities transmittance |
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