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垂直取向装置的研制
作者姓名:孙维平
作者单位:机电部第33研究所
摘    要:垂直取向装置是制备涂布型垂直磁记录介质的关键设备。装置性能的优劣直接影响介质的垂直取向度和高密度记录性能。作者设计制造了一台高效实用的垂直取向装置。通过合理的结构设计,使装置的有效取向场达到317.6kA/m(3970 Oe),而其反向有害场降低到-0.12kA/m(-1.5 Oe)。本文介绍了装置的设计思想、结构参数对取向场分布的影响以及装置的结构设计和性能测试结果。

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