计算机控制的快速图形发生技术在电子束扫描系统中的应用

一、引言近几年来,随着电子器件向高频、高集成度方向发展,要求制作最细线条为微米、亚微米级微细图形的掩膜板,普通光学老工艺碰到了难以逾越的困难。而计算机控制的电子束扫描曝光系统,因具有较高的精密度和较好的灵活性,在国内外都获得突飞猛进的发展。超大规模集成电路、磁泡存储器、高频大功率管、微波晶体管、集成光学器件、声表面波器件等,因此相继制造出来。如何改进我国目前的电子束曝光系统,使得在几项主要指标上赶上或超过目前欧美同类机的水平,进而提高生产效率,是我国电子束机的主要研究课题之一。