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光刻工艺中Si_3N_4膜的化学腐蚀

作者姓名：	杨亚生

作者单位：	重庆光电技术研究所

摘要：	本文讨论了光刻工艺中Si_3N_4膜的几种化学腐蚀的工艺、原理及影响化学腐蚀的一些因素,并对干法化学腐蚀与湿法化学腐蚀进行了较为详细的比较。
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