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溅射功率对离轴倾角沉积氧化锌薄膜结晶和光学性质的影响
引用本文:刘永,刘春阳,郭迪,于长明.溅射功率对离轴倾角沉积氧化锌薄膜结晶和光学性质的影响[J].长春理工大学学报,2021,44(2):1-6.
作者姓名:刘永  刘春阳  郭迪  于长明
作者单位:长春理工大学 理学院,长春 130022;长春中医药大学 基础医学院,长春 130117
基金项目:国家自然科学基金青年科学基金项目;吉林省产业创新专项资金项目;吉林省科技发展计划项目
摘    要:氧化锌作为宽禁带半导体在室温下具有高激子束缚能(60 meV)、化学性能稳定、良好的压电性能和光学性能等优点,在光发射器件等光电技术领域应用非常广泛.拟通过采用离轴倾角溅射的方法,探究溅射功率对氧化锌薄膜的结晶和光学性质的影响.相比于分子束外延和金属有机化学气相沉积等薄膜生长技术,磁控溅射具有明显的成本优势,薄膜纯度高、致密性以及均匀性良好,适于大尺寸生长.相比于传统的共轴垂直溅射,离轴倾角沉积可以使溅射到基片表面的粒子获得更多的横向迁移能,进而更容易迁移到合适的位点,有利于薄膜的高质量生长.在众多生长参数中,溅射功率是影响薄膜沉积以及薄膜晶体质量等物性的重要因素.因此,将采用射频磁控溅射就不同的溅射功率对氧化锌薄膜的形貌、结构以及发光性质等影响展开研究.

关 键 词:氧化锌薄膜  磁控溅射  溅射功率  离轴倾角沉积

Effect of Sputtering Power on Crystallization and Optical Properties of Zinc Oxide Thin Films Grown by Off-axis Inclined Sputtering
LIU Yong,LIU Chun-yang,GUO Di,YU Chang-ming.Effect of Sputtering Power on Crystallization and Optical Properties of Zinc Oxide Thin Films Grown by Off-axis Inclined Sputtering[J].Journal of Changchun University of Science and Technology,2021,44(2):1-6.
Authors:LIU Yong  LIU Chun-yang  GUO Di  YU Chang-ming
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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