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| 非晶氧化钒薄膜光学性质研究 | |
| 引用本文： | 许旻,邱家稳,贺德衍.非晶氧化钒薄膜光学性质研究[J].真空与低温,2003,9(3):134-137. |
| 作者姓名： | 许旻 邱家稳 贺德衍 |
| 作者单位： | 1. 兰州大学物理科学技术学院,甘肃,兰州,730000;兰州物理研究所,甘肃,兰州,730000 2. 兰州物理研究所,甘肃,兰州,730000 3. 兰州大学物理科学技术学院,甘肃,兰州,730000 |
| 摘 要： | 在氩氧混合气氛中,常温下用脉冲磁控溅射方法在石英玻璃和硅片上制备了V2O5薄膜。用X射线衍射、X射线光电子谱和原子力显微镜对薄膜微观结构进行了测试,用分光光度计测量从200～2500nm波段V2O5薄膜的透射和反射光谱。结果表明,常温下制备的V2O5薄膜为非晶结构,光学能隙为2.46eV。 |
| 关 键 词： | V2O5薄膜 脉冲溅射 微结构 光学特性 |
| 文章编号： | 1006-7086(2003)03-0134-04 |
| 修稿时间： | 2003年6月3日 |
OPTICAL PROPERTY STUDY OF AMORPHOUS VANADIUM OXIDE FILMS |
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| Abstract: | |
| Keywords: | V_2O_5 thin films pulsed-sputter deposition microstructure optical property |
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