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硅压力传感器的新技术
引用本文:冯景星.硅压力传感器的新技术[J].传感器与微系统,1995(1):52-54.
作者姓名:冯景星
作者单位:福州大学
摘    要:在研制压阻式扩散硅压力传感器中,除了采用常规的平面工艺以外,还需要几项特殊的、重要的新技术、新工艺,简要地论述真空静电封接技术、异向蚀刻技术以及减少层错的三氯乙烯氧化工艺等.

关 键 词:压力传感器,异向蚀刻技术,静电封接技术

New Techniques of Sillicon Pressure Sensor
Fen Jingxing.New Techniques of Sillicon Pressure Sensor[J].Transducer and Microsystem Technology,1995(1):52-54.
Authors:Fen Jingxing
Affiliation:Fuzhou University
Abstract:This paper discusses the study on piezoresistive diffuse sillicon pressure sensor. It is except sillicon planar technique for must be take to some new techniques of importance. That is welding technique of vacuum electrostatic, anisotropy etching technique, and TCE] technique for to diminish stacking fault.
Keywords:Pressure sensors Anisotropy etching technique Welding technique of electrostatic
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