| 薄膜沉积中基片的清洗方法探讨 |
| |
| 引用本文： | 袁安富,王珉. 薄膜沉积中基片的清洗方法探讨[J]. 材料开发与应用, 1999, 14(3): 44-45 |
| |
| 作者姓名： | 袁安富 王珉 |
| |
| 作者单位： | 南京航空航天大学,南京,210016 |
| |
| 摘 要： | 随着科学技术的发展，人们对材料的性能要求也愈来愈严格，有些性能往往很难用常规的工艺手段同时在一种材料母体上实现，因而用气相沉积的方法如化学气相沉积（ＣＶＤ）、物理气相沉积（ＰＶＤ）等在材料表面上涂敷一层薄膜是赋于材料某些特殊的功能的一种比较理想的途径...
|
| 关 键 词： | 薄膜沉积 基片 清洗法 |
| 修稿时间： | 1998-08-31 |
Cleaning of Substrate in Film Deposition |
| |
| Yuan Fuan,Wang Min. Cleaning of Substrate in Film Deposition[J]. Development and Application of Materials, 1999, 14(3): 44-45 |
| |
| Authors: | Yuan Fuan Wang Min |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
