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| 离子注入用高低温变温靶室 | |
| 引用本文： | 刘家瑞,周俊思,李玉璞,吴桢.离子注入用高低温变温靶室[J].核技术,1988(2). |
| 作者姓名： | 刘家瑞 周俊思 李玉璞 吴桢 |
| 作者单位： | 中国科学院物理研究所 (刘家瑞，周俊思，李玉璞)，中国科学院物理研究所(吴桢) |
| 摘 要： | 本文介绍了一个在77-800K范围可变温度下进行离子注入和就地电学测量的靶室。该靶室曾为金属、硅化物以及某些超导材料的离子束混合实验在10W左右的束流功率下使用了几年,温度漂移在±3K。 |
| 关 键 词： | 靶室 离子注入 离子束混合 低温 高温 |
A target chamber for ion implantation at variable temperatures |
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| Liu Jiarui Zhou Junsi Li Yupu Wu Zhen.A target chamber for ion implantation at variable temperatures[J].Nuclear Techniques,1988(2). | |
| Authors: | Liu Jiarui Zhou Junsi Li Yupu Wu Zhen |
| Abstract: | |
| Keywords: | target chamber ion implantation ion beam mixing low temperature high temperature |
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