|
|||||
|
|
| 新型电子回旋共振(ECR)等离子体刻蚀技术 | |
| 引用本文： | 刘一声.新型电子回旋共振(ECR)等离子体刻蚀技术[J].半导体技术,1993(1). |
| 作者姓名： | 刘一声 |
| 作者单位： | 四川压电与声光技术研究所 永川632164 |
| 摘 要： | 刻蚀技术是制作微电子、光电子和声电器件十分重要的工艺.射频、微波电子回旋共振(ECR)等离子体刻蚀技术比传统的湿法刻蚀和反应性离子刻蚀等方法有较多的优点,已用于薄膜和半导体基片材料的刻蚀.本文主要就这些新的ECR等离子体刻蚀技术以及它们对几种材料的刻蚀特性予以探讨. |
| 关 键 词： | 刻蚀 电子回旋共振 等离子体 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |