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低温沉积ITO透明导电膜的研究
引用本文:沈玫,纪建超,贺会权.低温沉积ITO透明导电膜的研究[J].材料工程,2006(Z1):17-19.
作者姓名:沈玫  纪建超  贺会权
作者单位:北京航空材料研究院,北京,100095
摘    要:通过探讨半导体氧化物ITO膜的透光和导电机理,用反应性直流磁控溅射的镀膜工艺,在有机玻璃上低温镀制(ITO)膜,研究ITO膜溅射工艺参数与透光和导电性能的关系,实现了在低温下镀制(ITO)膜的技术,其透光率≥80%以上,表面电阻≤30Ω/□.

关 键 词:透明导电膜  ITO膜  磁控溅射
文章编号:1001-4381(2006)Suppl-0017-03

Investigation of Sputting Coating ITO Transparent Electrconductive Film at Lower Temperature
SHEN Mei,JI Jian-chao,HE Hui-quan.Investigation of Sputting Coating ITO Transparent Electrconductive Film at Lower Temperature[J].Journal of Materials Engineering,2006(Z1):17-19.
Authors:SHEN Mei  JI Jian-chao  HE Hui-quan
Abstract:
Keywords:transparent conductive coatings  ITO film  magnetic control sputting
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