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| 用椭圆偏振光方法研究铬薄膜的氧化过程 | |
| 引用本文： | 成钢,陈庆东.用椭圆偏振光方法研究铬薄膜的氧化过程[J].桂林电子工业学院学报,1998,18(3):53-55. |
| 作者姓名： | 成钢 陈庆东 |
| 作者单位： | [1]桂林电子工业学院基础部 [2]洛阳工学院基础部 |
| 摘 要： | 应用空心阴极离子镀膜技术，制备了纯铬薄膜样品，样品可在不同的测量和时间下进行退火处理。同时庆用椭圆偏振测量术的多角入射法对Ｃｒ薄膜氧化层的厚度进行了测定，讨论了退火温度和退火时间对其氧化的影响。 |
| 关 键 词： | 椭圆偏振测量 氧化层厚度 铬薄膜 |
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