| BaTiO3/CoFe2O4/BaTiO3复合磁电薄膜生长及应力研究 |
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| 引用本文： | 周立勋,朱俊,黄文,张鹰,李言荣,罗文博.BaTiO3/CoFe2O4/BaTiO3复合磁电薄膜生长及应力研究[J].真空科学与技术学报,2007,27(5):386-390. |
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| 作者姓名： | 周立勋 朱俊 黄文 张鹰 李言荣 罗文博 |
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| 作者单位： | 电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054 |
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| 摘 要： | 用激光分子束外延（LMBE）设备,在SrTiO3（001）基片上外延生长BaTiO3/CoFe2O4/BaTiO3多层复合磁电薄膜结构。通过反射式高能电子衍射（RHEED）对薄膜生长过程进行原位监测,结果显示,随着CoFe2O4厚度的增加薄膜内应力逐渐被释放,并且应力释放的过程导致了薄膜生长模式的变化。高分辨X射线衍射（XRD）发现,随着CoFe2O4厚度的增加,CoFe2O4对BaTiO3薄膜的张应力逐渐增大,BaTiO3晶胞的c轴晶格常数逐渐变小。理论计算给出了BaTiO3面外晶格常数c随CoFe2O4沉积时间的变化规律。原子力显微镜（AFM）对表面形貌进行表征,进一步证明了复合薄膜生长模式的变化。
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| 关 键 词： | 磁电薄膜 界面应力 生长模式 |
| 文章编号： | 1672-7126（2007）05-386-05 |
| 修稿时间： | 2006-12-26 |
Growth and Interfacial Strain of BaTiO3/CoFe2O4/BaTiO3 Magnetoelectric Multilayers |
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| Zhou Lixun,Zhu Jun,Huang Wen,Zhang Ying,Li Yanrong,Luo Wenbo.Growth and Interfacial Strain of BaTiO3/CoFe2O4/BaTiO3 Magnetoelectric Multilayers[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2007,27(5):386-390. |
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| Authors: | Zhou Lixun Zhu Jun Huang Wen Zhang Ying Li Yanrong Luo Wenbo |
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| Affiliation: | University of Electronics Science and Technology of China, State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices, Chengdu 610054, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | RHEED |
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