| 将平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置 |
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| 引用本文： | 范洪远,张西鹏,沈保罗,邢忠虎,龙冲生,邱绍宇,邹红. 将平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置[J]. 新技术新工艺, 2007, 0(9): 78-80 |
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| 作者姓名： | 范洪远 张西鹏 沈保罗 邢忠虎 龙冲生 邱绍宇 邹红 |
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| 作者单位： | 1. 四川大学制造学院,四川,成都,610065
2. 核燃料及材科国家级重点实验室,四川,成都,610041 |
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| 摘 要： | 采用在真空室内加旋转筒的方法，将某平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置。运行结果表明，利用筒体旋转的方法，可以在粒度100μm左右的微粒表面包覆均匀完整的铬膜层，微粒形状对表面涂层的均匀、完整、涂层速度等有重要影响，微粒被筒体带动的力主要为二者间的分子间作用力，离心力起的作用很小。若将用于平面镀涂的溅射装置改造为处理微粒，需对溅射装置中的溅射靶和真空系统进行较大的改造。
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| 关 键 词： | 溅射装置 改造 微粒 铬膜层 |
| 修稿时间： | 2007-04-28 |
Altering the Sputtering Equipment Used for Planes to that for Particulates |
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| FAN Hongyuan,ZHANG Xipeng,SHEN Baoluo,XING Zhonghu,LONG Chongsheng,QIU Shaoyu,ZOU Hong. Altering the Sputtering Equipment Used for Planes to that for Particulates[J]. New Technology & New Process, 2007, 0(9): 78-80 |
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| Authors: | FAN Hongyuan ZHANG Xipeng SHEN Baoluo XING Zhonghu LONG Chongsheng QIU Shaoyu ZOU Hong |
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