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| 掩膜版清洗和光刻胶去除面临的挑战 | |
| 作者姓名： | James S． |
| 作者单位： | Papanu Applied |
| 摘 要： | 在65nm及以下节点,掩膜版的清洗变得更为关键,需要采用新的方法和技术。在传统的湿法工艺化学顺序中,首先用硫酸／双氧水混合液,然 |
| 关 键 词： | 掩膜版 光刻胶 清洗 193nm光刻 工艺化学 工艺流程 混合液 双氧水 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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