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ZnO基透明导电薄膜的制备与特性研究
引用本文:和晓晓,王文军,李淑红,刘云龙,史强.ZnO基透明导电薄膜的制备与特性研究[J].中国激光,2014(6):171-174.
作者姓名:和晓晓  王文军  李淑红  刘云龙  史强
作者单位:聊城大学物理科学与信息工程学院;山东省光通信科学与技术重点实验室;
基金项目:国家自然科学基金(61275147);山东省科技攻关计划(2010GGX10127);山东省自然科学基金(ZR2012AL11,ZR2013EML006);山东省“泰山学者”建设工程专项经费;聊城大学重点科研基金
摘    要:透明导电薄膜被广泛应用于平板显示,太阳能电池等发光行业。透明导电薄膜厚度的减少将导电薄膜的用途大为拓展,目前该薄膜的制备仍然是研究热点。采用激光分子束外延(LMBE)镀膜系统在1.0×10-5 Pa的高真空下制备了不同厚度、不同氧压下的ZnO单层膜以及ZnO/Au/ZnO三明治结构薄膜,并进行了光谱及电阻率的测试,运用控制变量法得到ZnO和Au的最优膜层厚度。制备出通透性好(可见光透射率80%以上)、电阻率低(6.89×10-4Ω·cm)厚度均匀的透明导电薄膜。

关 键 词:薄膜  ZnO/Au/ZnO  低电阻率  机理分析
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