| 电沉积制备铜钴颗粒膜 |
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| 引用本文： | 赵林,樊占国,杨中东,田昂,国栋. 电沉积制备铜钴颗粒膜[J]. 材料与冶金学报, 2007, 6(4): 279-284 |
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| 作者姓名： | 赵林 樊占国 杨中东 田昂 国栋 |
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| 作者单位： | 东北大学,材料与冶金学院,沈阳,110004;东北大学,材料与冶金学院,沈阳,110004;东北大学,材料与冶金学院,沈阳,110004;东北大学,材料与冶金学院,沈阳,110004;东北大学,材料与冶金学院,沈阳,110004 |
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| 摘 要： | 采用电沉积方法制备了铜钴巨磁电阻功能膜,研究了电沉积工艺参数,包括镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值以及沉积时的电流密度等对铜钴颗粒膜层的组成的影响.用扫描电镜、金相显微镜、EDX能谱仪和XRD分析了镀层组成、表面形貌和结构.膜层的组成成分、晶粒大小与镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值以及沉积时的电流密度有着直接的联系.镀液中钴离子浓度增大时,镀层中的钴含量相应的提高,镀层结晶更加粗大.镀层中铜离子浓度增大时,镀层中的铜含量提高,镀层结晶变得致密.配合剂柠檬酸钠浓度增加对镀层中钴的含量起到一定的抑止作用,而对铜的沉积则有促进作用,同时颗粒膜层结晶更加致密.低pH值下有利于铜的沉积,但此时镀层的晶粒较为粗大.控制电流密度可以改变镀层的组成,较高的电流密度有利于钴的沉积.
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| 关 键 词： | 电沉积 沉积条件 铜钴颗粒膜 组成 |
| 文章编号： | 1671-6620(2007)04-0279-04 |
| 修稿时间： | 2007-04-13 |
Preparation of Cu-Co granular film by electrodeposition |
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| ZHAO Lin,FAN Zhan-guo,YANG Zhong-dong,TIAN Ang,GUO Dong. Preparation of Cu-Co granular film by electrodeposition[J]. Journal of Materials and Metallurgy, 2007, 6(4): 279-284 |
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| Authors: | ZHAO Lin FAN Zhan-guo YANG Zhong-dong TIAN Ang GUO Dong |
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