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| 高速沉积金刚石薄膜 | |
| 作者姓名： | 赖高惠 |
| 摘 要： | 日本工业研究所通过改变附加电子化学气相沉积法(EACVD)的薄膜生成条件,成功地制得了结晶度与天然金刚石接近的金刚石薄膜。就金刚石薄膜的应用而论,结晶度与天然金刚石的相似性是估价标准。EACVD 法使用的设备比较简单,沉积速率比许多金刚石薄膜 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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