摘 要: | 将<15%(重)H_2SiF_6与15~35(重)%NH_4OH于15~45℃下精密混合,至pH8.5~9.2,再加NH_4OH以沉淀SiO_2,沉淀物过滤,洗涤,并于900~1500℃下焙烧,制得机械强度和纯度较高的SiO_2,用作催化剂戴体。例如:将0.5升H_2SiF_6(10重%)与NH_4OH(25%)于32℃下以16.25厘米~3/分速率混合,至pH9.0沉淀物过滤,洗涤,于150℃下干燥。块状SiO_2的比表面为110米~3/克,孔容积0.54厘米~2/克,表面的OH~-基浓度为5/标米~2,块状SiO_2于1173℃下焙烧后其比表面为27米~2/克,孔容积0.42厘米~3/克,OH基浓度0.66/标米~2。
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