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ZnS薄膜的制备及性能研究
引用本文:宋学萍,杨筱静,孙兆奇.ZnS薄膜的制备及性能研究[J].功能材料,2006,37(11):1734-1736.
作者姓名:宋学萍  杨筱静  孙兆奇
作者单位:安徽大学物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039;安徽大学物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039;安徽大学物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039
基金项目:国家自然科学基金 , 安徽省自然科学基金 , 安徽省教育厅科研项目 , 安徽省人才基金
摘    要:用射频溅射法在Si基片和石英基片上分别制备了490nm厚的ZnS薄膜,并在不同温度下进行退火处理.微结构分析表明:退火后的ZnS薄膜均呈多晶状态,晶体结构为立方闪锌矿结构的β-ZnS;随着退火温度的升高,薄膜的平均晶粒尺寸逐渐增大,由20℃的10.91nm增大到500℃的15.59nm,晶格常数在不同退火温度下均比标准值0.5414nm稍小.应力分析表明:退火后的ZnS薄膜应力减小,400℃时分布较均匀,平均应力为1.481×108Pa,应力差为1.939×108Pa.且400℃前为张应力,400℃以后转变为压应力.光学分析表明,随着退火温度的升高,ZnS薄膜的透过率增强,吸光度减弱.

关 键 词:ZnS薄膜  微结构  应力  退火温度  光学特性
文章编号:1001-9731(2006)11-1734-03
收稿时间:2006-01-26
修稿时间:2006-06-13

Study on preparation and properties of ZnS thin films
SONG Xue-ping,YANG Xiao-jing,SUN Zhao-qi.Study on preparation and properties of ZnS thin films[J].Journal of Functional Materials,2006,37(11):1734-1736.
Authors:SONG Xue-ping  YANG Xiao-jing  SUN Zhao-qi
Abstract:
Keywords:ZnS films  microstructure  stress  annealing temperature  optical properties
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