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CW CO_2激光退火后离子注入硅片的性质研究
作者姓名:邬建根  沈金萱  屈逢源  杨恒青  赵有源  高如芳
作者单位:复旦大学物理系(邬建根,沈金萱,屈逢源,杨恒青,赵有源),复旦大学物理系(高如芳)
摘    要:当激光功率、束斑直径和硅片预热温度一定时,存在一临界扫描速度。当激光扫描速度小于此临界位时,CW CO_2激光退火具有和热退火相同的载流子浓度、方块电阻、折射率、消光系数和反射率,但激光退火后少子扩散长度要比热退火的大几倍。

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